[发明专利]一种在线优化抛光压力的方法

摘要

本发明提供一种在线优化抛光压力的方法，包括：获取基准抛光曲线，所述基准抛光曲线为基准抛光去除率随抛光位置的变化曲线；根据基准抛光曲线获取第一基准归一化系数B1至第N基准归一化系数BN；采用抛光头对第w片晶圆进行抛光；获取第w片晶圆的第k晶圆区的去除率的第k表征归一化系数β(k)w；提供预测模型，所述预测模型适于根据第k施压区对第w片晶圆的第k晶圆区施加的压强P(k)w和第w+1片晶圆的第k晶圆区的压强补偿系数α(k)w+1获取第k施压区对第w+1片晶圆的第k晶圆区施加的预测压强P(k)w+1。所述方法能在线调整抛光压强且简单化。