[发明专利]一种基于高次谐波的极紫外光刻曝光方法在审
| 申请号： | 202111325361.X | 申请日： | 2021-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN113835313A | 公开（公告）日： | 2021-12-24 |
| 发明（设计）人： | 徐永兵;陈笑;黎遥;严羽;周建;钟文彬;何亮;陆显扬 | 申请（专利权）人： | 南京大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 | 代理人： | 陈建和 |
| 地址： | 210093 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种基于高次谐波的极紫外光刻曝光方法，1)使用飞秒级的强场激光与工作介质相互作用产生高次谐波；2)反应产生的高次谐波复色光通过过滤选取谐波级次，即用于测试的波长所在的谐波级次，从而得到测试波长的纯净极紫外光；3)极紫外光通过狭缝进入曝光装置，对涂敷光刻胶的晶圆样品进行曝光，将掩模版的图案转移到样品表面，通过累积曝光时间来达到光刻胶所需的曝光剂量。所述用于曝光的极紫外光基于高次谐波技术产生。纯净的极紫外光进入曝光装置，使涂有光刻胶的硅片曝光，通过累积曝光时间的方式达到光刻胶所需的曝光剂量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 谐波 紫外 光刻 曝光 方法 | ||
【主权项】：
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