[发明专利]一种光学邻近效应预处理方法、装置、介质及设备在审
| 申请号： | 202111325847.3 | 申请日： | 2021-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN114167689A | 公开（公告）日： | 2022-03-11 |
| 发明（设计）人： | 陈宪宏;曾鼎程;胡展源 | 申请（专利权）人： | 上海华力集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 王关根 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明属于微电子技术领域，尤其涉及一种光学邻近效应预处理方法及与之相应的装置、介质及设备；通过对电路版图的校正，消除了潜在的断路风险；相关方法、装置等适用于局部版图紧密度高的场景，可避免高的刻蚀率引起的线端退缩，进而保证孔洞包覆率，避免断线等现象的出现。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学 邻近 效应 预处理 方法 装置 介质 设备 | ||
【主权项】：
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