[发明专利]一种掩膜板清洗装置及方法在审
申请号: | 202111326711.4 | 申请日: | 2021-11-10 |
公开(公告)号: | CN113985697A | 公开(公告)日: | 2022-01-28 |
发明(设计)人: | 张麒麟;白阳阳 | 申请(专利权)人: | 福建华佳彩有限公司 |
主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82 |
代理公司: | 福州君诚知识产权代理有限公司 35211 | 代理人: | 戴雨君 |
地址: | 351100 福*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本发明公开了一种掩膜板清洗装置及方法,括可开闭清洗槽、药剂循环蒸馏部、掩膜板固定治具以及治具吊装推进机构,所述药剂循环蒸馏部通过药剂供应管道向可开闭清洗槽内的喷淋管供应对可开闭清洗槽上装载的掩膜板进行清洗洁净的药剂,所述掩膜板固定治具用于装载固定掩膜板,且掩膜板固定治具装载于旋转部上,所述治具吊装推进机构包括给进机构以及吊装机构,所述吊装机构将装载掩膜板后的掩膜板固定治具投入或者提拉出可开闭清洗槽,所述给进机构推进吊装机构平移,将掩膜板固定治具对应投入有不同种类药剂的可开闭清洗槽,可实现洁净药剂与非洁净药剂的不同比例混合对掩膜板清洗,且旋转部可实现掩膜板180°换向清洗,清洗效果好。 | ||
搜索关键词: | 一种 掩膜板 清洗 装置 方法 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备