[发明专利]一种激光侧向同步复合喷射电沉积增材再制造铜的装置及方法在审

专利信息
申请号: 202111330849.1 申请日: 2021-11-11
公开(公告)号: CN114086226A 公开(公告)日: 2022-02-25
发明(设计)人: 吴国龙;熊庭超;姚建华;张群莉 申请(专利权)人: 浙江工业大学
主分类号: C25D5/08 分类号: C25D5/08;C25D3/38;C25D5/02;C25D5/36;C25D21/18;B22F10/10;B08B7/00;B33Y10/00
代理公司: 杭州天正专利事务所有限公司 33201 代理人: 黄美娟;朱思兰
地址: 310014 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种激光侧向同步复合喷射电化学增材再制造铜的装置及方法,本发明装置激光束照射在喷射沉积区域的侧方,通过控制X‑Y移动平台在基体表面沉积铜,将激光的区域选择性与喷射电沉积的区域沉积性相结合,实现基体表面的局部沉积,可对大尺寸或复杂零件进行局部强化或修复处理;本发明方法沉积铜前,先对基体进行激光清洗处理,在其表面生成熔凝层,可提高沉积层与基体的结合力,然后采用激光侧向照射同步耦合喷射电沉积的方法对基体进行沉积,获得铜沉积层;本发明激光侧向照射实现铜沉积层的前、后处理,提高沉积层的均匀性,同时激光对喷射沉积过程具有强化作用,解决传统喷射电沉积晶粒粗大,沉积不均匀,结合力差的问题。
搜索关键词: 一种 激光 侧向 同步 复合 喷射 沉积 增材再 制造 装置 方法
【主权项】:
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