[发明专利]多层离心式高纯度单晶铜还原炉及冶炼方法有效
| 申请号： | 202111331916.1 | 申请日： | 2021-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN113930625B | 公开（公告）日： | 2023-04-28 |
| 发明（设计）人： | 赖传发 | 申请（专利权）人： | 东莞市单晶电子科技有限公司 |
| 主分类号： | C22B15/00 | 分类号： | C22B15/00;C22B5/12;C22B9/02 |
| 代理公司： | 北京卓恒知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11394 | 代理人： | 李迪 |
| 地址： | 523000 广东省东莞*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种多层离心式高纯度单晶铜还原炉，包括炉壳、第一还原转子、第二还原转子、冷却筒、环形顶板、加热坩埚、导液管、开闭控制机构和旋转动力机构；第一轴体部设有主气孔，锥形转盘部设有第一微孔；第二还原转子转动连接在炉壳的内底，第二还原转子呈锥状，第二还原转子的小端转动连接在炉壳内；冷却筒固定在炉壳的内侧壁上，开闭控制机构用于控制导液管与加热坩埚的连通和断开；旋转动力机构用于同步驱动第一还原转子和第二还原转子同步转动，且第二还原转子的转速大于第一还原转子的转速；本发明使得铜液与还原性气体的接触面积更大，还原反应更为充分，获得纯度更高的铜液，同时缩短反应时间，利于提高产品的性能。 | ||
| 搜索关键词： | 多层 离心 纯度 单晶铜 还原 冶炼 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东莞市单晶电子科技有限公司，未经东莞市单晶电子科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202111331916.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
