[发明专利]一种键合鳍状硅板的GaN晶圆加工工艺在审

专利信息
申请号: 202111342258.6 申请日: 2021-11-12
公开(公告)号: CN114093831A 公开(公告)日: 2022-02-25
发明(设计)人: 严立巍;符德荣;陈政勋 申请(专利权)人: 绍兴同芯成集成电路有限公司
主分类号: H01L23/367 分类号: H01L23/367;H01L21/78;H01L21/683
代理公司: 北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙) 11357 代理人: 童杨益
地址: 312000 浙江省绍兴市越城区*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开一种键合鳍状硅板的GaN晶圆加工工艺,包括以下步骤:S1、预先在硅板一侧表面制作散热鳍片;S2、完成硅衬底GaN晶圆的正面元件制程;S3、将硅衬底GaN晶圆正面暂时性键合玻璃载板;S4、翻转硅衬底GaN晶圆,通过研磨、蚀刻的方式对晶圆背面的硅衬底进行减薄;S5、在硅衬底表面沉积SiO2层,利用SiO2层使硅板与硅衬底永久键合;S6、在硅板表面涂布聚酰亚胺,填充散热鳍片的间隙,利用激光或钻石刀轮切割断开切割道;S7、将晶圆背面贴附于切割模框上,解键合移除玻璃载板,完成硅衬底GaN晶圆的加工。本发明预先在硅板开设散热鳍片,在加工硅衬底GaN晶圆时将带散热鳍片的硅板与硅衬底键合,从而可以用风冷或水冷的方式从元件背面进行高效率的散热。
搜索关键词: 一种 键合鳍状硅板 gan 加工 工艺
【主权项】:
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