[发明专利]一种键合鳍状硅板的GaN晶圆加工工艺在审
申请号: | 202111342258.6 | 申请日: | 2021-11-12 |
公开(公告)号: | CN114093831A | 公开(公告)日: | 2022-02-25 |
发明(设计)人: | 严立巍;符德荣;陈政勋 | 申请(专利权)人: | 绍兴同芯成集成电路有限公司 |
主分类号: | H01L23/367 | 分类号: | H01L23/367;H01L21/78;H01L21/683 |
代理公司: | 北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙) 11357 | 代理人: | 童杨益 |
地址: | 312000 浙江省绍兴市越城区*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: |
本发明公开一种键合鳍状硅板的GaN晶圆加工工艺,包括以下步骤:S1、预先在硅板一侧表面制作散热鳍片;S2、完成硅衬底GaN晶圆的正面元件制程;S3、将硅衬底GaN晶圆正面暂时性键合玻璃载板;S4、翻转硅衬底GaN晶圆,通过研磨、蚀刻的方式对晶圆背面的硅衬底进行减薄;S5、在硅衬底表面沉积SiO |
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搜索关键词: | 一种 键合鳍状硅板 gan 加工 工艺 | ||
【主权项】:
暂无信息
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