[发明专利]真空镀膜设备及镀膜方法有效
| 申请号： | 202111343424.4 | 申请日： | 2021-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN114164404B | 公开（公告）日： | 2022-08-30 |
| 发明（设计）人： | 林海天;李立升;郑礼伟;陈松;杨恺 | 申请（专利权）人： | 东莞市华升真空镀膜科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32;C23C14/54;C23C14/02 |
| 代理公司： | 华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 张捷美 |
| 地址： | 523835 广东省东莞市大岭*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种真空镀膜设备及镀膜方法。其包括具有真空镀膜空间的腔体、用于提供朝向所述真空镀膜空间运动的第一离子束离的子源发射组件、用于提供朝向所述真空镀膜空间运动的第二离子束多弧源发生组件；产生磁场以使所述真空镀膜空间内的第一离子束或第二离子束内的镀膜微粒移动方向与速度发生变化的偏转组件以及发送指令至所述偏转组件以调节所述偏转组件产生的磁场大小的PID控制系统。其通过偏转组件改变镀膜微粒的运动轨迹以及运动范围，使得不同形状、尺寸的工件均可以用同一真空镀膜设备进行镀膜，镀膜层的硬度与结合力均较佳。 | ||
| 搜索关键词： | 真空镀膜 设备 镀膜 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东莞市华升真空镀膜科技有限公司，未经东莞市华升真空镀膜科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202111343424.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种显示方法及装置
- 下一篇：一种高压无功补偿装置
- 同类专利
- 专利分类
