[发明专利]一种化学机械抛光浆料及其制备方法在审
申请号: | 202111345380.9 | 申请日: | 2021-11-15 |
公开(公告)号: | CN113980579A | 公开(公告)日: | 2022-01-28 |
发明(设计)人: | 戴永忠;戴日涛 | 申请(专利权)人: | 上海利客抛光材料有限公司 |
主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02 |
代理公司: | 上海创开专利代理事务所(普通合伙) 31374 | 代理人: | 马正红 |
地址: | 201611 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: |
本发明公开了一种化学机械抛光浆料及其制备方法,涉及抛光技术领域。本发明按照质量百分比计,包括15‑25份无机抛光粉、5‑10氧化剂、0.1‑1份表面活性剂、0.1‑1份消泡剂、1‑2份增稠剂、1‑2份PH调节剂以及100份去离子水;无机抛光粉采用CeO |
||
搜索关键词: | 一种 化学 机械抛光 浆料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海利客抛光材料有限公司,未经上海利客抛光材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202111345380.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种高韧性PA66材料及其制备方法
- 下一篇:一种起机系统及控制方法