[发明专利]一种化学机械抛光浆料及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202111345380.9 申请日: 2021-11-15
公开(公告)号: CN113980579A 公开(公告)日: 2022-01-28
发明(设计)人: 戴永忠;戴日涛 申请(专利权)人: 上海利客抛光材料有限公司
主分类号: C09G1/02 分类号: C09G1/02
代理公司: 上海创开专利代理事务所(普通合伙) 31374 代理人: 马正红
地址: 201611 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种化学机械抛光浆料及其制备方法,涉及抛光技术领域。本发明按照质量百分比计,包括15‑25份无机抛光粉、5‑10氧化剂、0.1‑1份表面活性剂、0.1‑1份消泡剂、1‑2份增稠剂、1‑2份PH调节剂以及100份去离子水;无机抛光粉采用CeO2‑SiO2复合抛光粉;氧化剂为硝酸或重铬酸钠;抛光浆料的PH值为7‑8。本发明的CeO2‑SiO2复合抛光粉采用不同比例的CeO2和SiO2,经过试验结果表明,可获得较高的抛蚀量,摒弃了CeO2和SiO2各自的缺点,并整合了优点,具有高磨削量、抛光能力最好,使用寿命长,抛光精度高,易清洗,成本低,抛光效率高的优点。
搜索关键词: 一种 化学 机械抛光 浆料 及其 制备 方法
【主权项】:
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