[发明专利]用于光子管芯中的无源对准的硅凹槽架构和制造工艺在审

专利信息
申请号: 202111346071.3 申请日: 2021-11-15
公开(公告)号: CN114660738A 公开(公告)日: 2022-06-24
发明(设计)人: O·卡尔哈德;李晓倩;N·德什潘德;S·沙兰 申请(专利权)人: 英特尔公司
主分类号: G02B6/42 分类号: G02B6/42;H01L21/762
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 邬少俊
地址: 美国加*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种凹槽对准结构包括蚀刻停止材料和蚀刻停止材料之上的基板。一组凹槽沿第一方向处于基板的顶表面中,并且粘合材料处于一组凹槽的底部中。光纤处于一组凹槽中、在粘合材料之上,并且光纤的一部分在基板上方延伸。一组聚合物引导件沿第一方向处于基板的顶表面上,与所述一组凹槽交错。
搜索关键词: 用于 光子 管芯 中的 无源 对准 凹槽 架构 制造 工艺
【主权项】:
暂无信息
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