[发明专利]一种新型零级波片制备方法以及新型零级波片在审
| 申请号： | 202111359035.0 | 申请日： | 2021-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN114114514A | 公开（公告）日： | 2022-03-01 |
| 发明（设计）人： | 吴杰阳;黄荣湖;薛哲晰 | 申请（专利权）人： | 深圳彩翼光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02B27/00 |
| 代理公司： | 深圳市顺天达专利商标代理有限公司 44217 | 代理人： | 邹秋菊 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市南山区西丽街道*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种新型零级波片制备方法，包括：调整晶体的切割方向与晶体光轴之间的夹角以调整非常光折射率，基于光学延迟量公式，降低非常光折射率和寻常光折射率的光折射率差值以增大零级波片的波片厚度；基于所述波片厚度制造所述零级波片。本发明还涉及采用该新型零级波片制备方法制备的新型零级波片。本发明通过调整切割石英晶体的角度，达到增加零级波片的厚度的目的，从而可以简化零级波片的制造难度。进一步的，针对一些对离散角要求严格的应用场景，可以通过设置两级波片消除离散角。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 新型 零级波片 制备 方法 以及 | ||
【主权项】：
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