[发明专利]一种光响应分子印迹材料、制备方法及应用在审

专利信息
申请号: 202111375143.7 申请日: 2021-11-18
公开(公告)号: CN114192123A 公开(公告)日: 2022-03-18
发明(设计)人: 徐婉珍;王宁伟;宋广三;佀豪杰;宋菲;张文文;黄卫红;杨文明 申请(专利权)人: 江苏大学
主分类号: B01J20/26 分类号: B01J20/26;B01J20/28;B01J20/30;C08F292/00;C08F222/14;C08F220/36;C08J9/26;G01N33/18;G01N1/34;G01N1/40
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 212013 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明属于功能材料制备技术领域,涉及一种光响应分子印迹材料、制备方法及应用;首先制备改性的二氧化硅纳米粒子,然后制备光敏单体,最后将光敏单体和模板分子聚合到二氧化硅纳米粒子表面得到光响应分子印迹材料;本发明制备的光响应材料,可以解决传统吸附材料解离效率低的问题;该印迹材料具有与发明目标一致的明显的核壳结构;同时,本发明结合分子印迹材料与光响应智能材料的性能,成功的应用于水样中痕量磺胺二甲基嘧啶的富集/分离。
搜索关键词: 一种 响应 分子 印迹 材料 制备 方法 应用
【主权项】:
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