[发明专利]一种碱性抛光后TP盖板玻璃清洗剂在审
| 申请号： | 202111381084.4 | 申请日： | 2021-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN114015514A | 公开（公告）日： | 2022-02-08 |
| 发明（设计）人： | 刘小勇;叶鑫煌;吴远超;房龙翔;肖小江;刘文生;李丛香 | 申请（专利权）人： | 福建省佑达环保材料有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/12 | 分类号： | C11D1/12;C11D3/04;C11D3/30;C11D3/33;C11D3/065;C11D3/20;C11D3/48;C11D3/60;B08B3/08;B08B3/12 |
| 代理公司： | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人： | 吴姗姗;蔡学俊 |
| 地址： | 362800 福建省泉州市泉*** | 国省代码： | 福建;35 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明属于清洗材料领域，具体涉及一种碱性抛光后TP盖板玻璃清洗剂，其组分包括：按质量比计：5‑30%的无机碱、5‑10%的有机碱、3‑15%的螯合剂、1‑10%的高效分散剂、5‑15%的阴离子脂肪醇醚类双子表面活性剂、1‑5%的抑菌剂、50‑70%的去离子水。本发明通过采用阴离子脂肪醇醚类双子表面活性剂，可以使丝印后的玻璃表面附着的硅胶胶印软化卷离，有效解决清洗后玻璃表面存在大量胶印和硅油的问题，同时对研磨粉、抛光粉、油渍、指纹和无机物残留的清洗具有显著效果。该清洗剂尤其适用于精雕玻璃、AG玻璃、手机光学玻璃的清洗，组分稳定性好，气味小，在CMP（化学机械抛光）后清洗工序具有良好的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 碱性 抛光 tp 盖板 玻璃 洗剂 | ||
【主权项】：
暂无信息
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