[发明专利]一种受控磁场复杂曲面化学机械抛光装备有效
| 申请号： | 202111396877.3 | 申请日： | 2021-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN114055257B | 公开（公告）日： | 2022-11-18 |
| 发明（设计）人： | 张振宇;李玉彪;任政;赵枢明;孟凡宁;徐光宏 | 申请（专利权）人： | 大连理工大学;中国兵器科学研究院宁波分院 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;B24B1/04;B24B31/10;B24B31/12 |
| 代理公司： | 大连东方专利代理有限责任公司 21212 | 代理人： | 修睿;李洪福 |
| 地址： | 116024 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明提供一种受控磁场复杂曲面化学机械抛光装备，包括主轴系统，磁场系统，抛光槽和数控系统。抛光时，抛光槽内填充化学抛光液和磁性磨料，抛光过程中可以通过精确控制电磁线圈的供电形式来控制抛光槽内部的电磁场，进而控制抛光槽内磁性磨料的运动轨迹与运动形态，结合主轴的转速和偏转角度的变化以及主轴的轴向超声振动作用，使得磁性磨料能到达曲面零件的任何表面，能以较强的均匀的机械磨削作用力去除复杂曲面零件表面由化学抛光液形成的软化膜，该装备能适用于抛光不同类型不同材质的复杂曲面零件，通用性强，抛光后复杂曲面零件表面一致性好，表面质量高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 受控 磁场 复杂 曲面 化学 机械抛光 装备 | ||
【主权项】：
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