[发明专利]增加框架均匀性量测的掩膜版设计方法在审
| 申请号： | 202111399237.8 | 申请日： | 2021-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN114113091A | 公开（公告）日： | 2022-03-01 |
| 发明（设计）人： | 张喆;闫波 | 申请（专利权）人： | 上海华力集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/84 | 分类号： | G01N21/84;G03F1/70 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 刘昌荣 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种增加框架均匀性量测的掩膜版设计方法，提供掩膜板；在所述掩膜板上形成框架图案，其中所述框架图案包括划片槽图案；在所述掩膜板上形成框架图案，其中所述框架图案包括划片槽图案；对标记区域设置量测标记，其中标记区域使得框架图案的所有区域被量测。本发明给框架图案不能放置标记的区域提供了可以放置光刻图形量测标记的可能；可以全面的量测监控标记的图形均匀性，便于调控光刻条件。 | ||
| 搜索关键词： | 增加 框架 均匀 性量测 掩膜版 设计 方法 | ||
【主权项】：
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