[发明专利]一种磁性抛光装置及磁性抛光控制方法有效
| 申请号： | 202111400155.0 | 申请日： | 2021-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN114055258B | 公开（公告）日： | 2023-04-18 |
| 发明（设计）人： | 高春甫;金泓凯;周崇秋;李林峰;鄂世举;贺新升;包思远 | 申请（专利权）人： | 浙江师范大学 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;B24B31/112;B24B41/02;B24B27/02;B24B51/00;B24B31/12;B24B49/16 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人： | 刘芳 |
| 地址： | 321004 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种磁性抛光装置及磁性抛光控制方法。所述磁性抛光装置包括：组合式抛光磁铁、磁铁夹具、悬臂支撑架、载液盘、机床、运动控制系统和磁性抛光控制系统；其中所述组合式抛光磁铁包括依次设置的偶数个磁铁，相邻两个所述磁铁之间具有预设间隙且相邻两个所述磁铁的极性相斥。本发明通过由多个磁铁极性两两相反地设置形成组合式抛光磁铁，能够产生宽范围、强度大的抛光磁场，解决了圆柱形磁铁只能在边缘区域产生强度不大的磁场的问题，有效提高了抛光效率。所述磁性抛光控制方法能够确定抛光工件表面各点的抛光压力和抛光轨迹，实现抛光的去除率的控制，提高了抛光精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁性 抛光 装置 控制 方法 | ||
【主权项】：
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