[发明专利]一种工作点自稳定型薄膜铌酸锂马赫曾德尔电光调制器在审
| 申请号： | 202111405646.4 | 申请日： | 2021-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN114089551A | 公开（公告）日： | 2022-02-25 |
| 发明（设计）人： | 袁帅;孙昊骋;陶诗琪 | 申请（专利权）人： | 上海安湃芯研科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/035 | 分类号： | G02F1/035;G02F1/03;G02F1/21;G02F1/225 |
| 代理公司： | 北京东方盛凡知识产权代理事务所(普通合伙) 11562 | 代理人： | 李娜 |
| 地址： | 201803 上海市嘉定区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种工作点自稳定型薄膜铌酸锂马赫曾德尔电光调制器，通过设置的调制臂位于2×2MMI结构和1×2分光结构之间，上下调制臂设计完全对称，调制臂两侧具有对称设计的调制电极起信号加载的作用，对称的电极结构也保证了马赫曾德尔干涉结构上下臂之间不会引入相位差，光从所述2×2MMI结构的一个输入端口或者所述1×2分光结构进入，由于所述2×2MMI结构的自映像效应，会引入π/2的相位差，使得调制器的工作点自动稳定在3dB工作点，而无需施加其他控制装置进行工作点的调整与稳定，且工作点不随时间与温度等外界因素影响，可以长期稳定在线性工作区中心位置保持不动。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 工作 稳定 薄膜 铌酸锂 马赫 曾德尔 电光 调制器 | ||
【主权项】：
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