[发明专利]一种磁控折射率光学薄膜的制备方法在审
| 申请号： | 202111409167.X | 申请日： | 2021-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN114226198A | 公开（公告）日： | 2022-03-25 |
| 发明（设计）人： | 张遒姝;彭倍;文盼;郭志浩 | 申请（专利权）人： | 电子科技大学 |
| 主分类号： | B05D5/06 | 分类号： | B05D5/06;B05D7/24;B05D1/00;B05D3/02;B05D3/00;G02B1/10 |
| 代理公司： | 电子科技大学专利中心 51203 | 代理人： | 邓黎 |
| 地址： | 611731 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种磁控折射率光学薄膜的制备方法，属于智能材料和光学材料领域。本发明制备的光学薄膜是一种两相系统，基体相由PDMS和纳米尺度的磁性颗粒组成，纳米磁性颗粒聚集成微米尺度的团块作为第二相随机分布于基体相中；本发明提供的制备方法中，通过详细的限定磁性纳米颗粒与PDMS混合溶液的混合比例以及混合方式，适当地结合玻璃棒搅拌、超声波振荡和涡旋混匀控制第二相在基体相中的分布和形态，获得的薄膜具有良好的磁控特性，即施加磁场能显著地改变薄膜的折射率。微透镜材料的折射率会显著影响其焦距，因此使用这种光学薄膜制造的微透镜具有磁响应特性，可以通过施加磁场控制微透镜的焦距。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 折射率 光学薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
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