[发明专利]一种高效编程的半浮栅晶体管及其制备方法在审
申请号: | 202111414299.1 | 申请日: | 2021-11-25 |
公开(公告)号: | CN114141628A | 公开(公告)日: | 2022-03-04 |
发明(设计)人: | 晁鑫;王晨;陈琳;孙清清;张卫 | 申请(专利权)人: | 复旦大学 |
主分类号: | H01L21/336 | 分类号: | H01L21/336;H01L29/423;H01L29/788 |
代理公司: | 北京得信知识产权代理有限公司 11511 | 代理人: | 孟海娟 |
地址: | 200433 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开一种高效编程的半浮栅晶体管及其制备方法。该高效编程的半浮栅晶体管,包括:衬底,其形成有P阱区、N阱区和U型槽,其中,N阱区位于P阱区上方,U型槽贯穿N阱区;半浮栅介质层,形成在U型槽表面并延伸覆盖一侧的部分N阱区表面,且在另一侧形成有窗口;半浮栅,覆盖半浮栅介质层并完全填充U型槽,且在窗口处与N阱区相接触;控制栅介质层、控制栅和掩膜层,控制栅介质层覆盖半浮栅,控制栅和掩膜层依次形成在控制栅介质层上;分离栅介质层和分离栅,分离栅介质层形成在N阱区表面并延伸覆盖部分掩膜层表面,分离栅覆盖分离栅介质层并填充分离栅区域;源区和漏区,分别形成在控制栅和分离栅两侧,N阱区中。 | ||
搜索关键词: | 一种 高效 编程 半浮栅 晶体管 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
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H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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