[发明专利]光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质在审
| 申请号： | 202111416385.6 | 申请日： | 2021-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN116165837A | 公开（公告）日： | 2023-05-26 |
| 发明（设计）人： | 杜杳隽;丁丽华 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/36 | 分类号： | G03F1/36 |
| 代理公司： | 上海知锦知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31327 | 代理人： | 郭学秀 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质，方法包括：提供初始版图层，包括多个沿第一方向排布的图形行，每个图形行均包括沿第二方向规律排布的多个图形，第一方向垂直于第二方向；将初始版图层拆分为第一版图层和第二版图层，将间隔相邻的图形行置于第一版图层中，将剩余图形行置于第二版图层中；将第一版图层拆分为第三版图层和第四版图层，将第一版图层的每个图形行中，间隔相邻的图形置于第三版图层中，剩余图形置于第四版图层中；将第二版图层拆分为第五版图层和第六版图层，将第二版图层的每个图形行中，间隔相邻的图形置于第五版图层中，剩余图形置于第六版图层中。本发明提高光学邻近修正效果的同时，节约工艺成本。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 邻近 修正 方法 系统 掩膜版 设备 存储 介质 | ||
【主权项】：
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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