[发明专利]一种基于同轴投影的光场相机三维测量装置及系统有效
| 申请号： | 202111421135.1 | 申请日： | 2021-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN114111626B | 公开（公告）日： | 2023-08-22 |
| 发明（设计）人： | 吴庆阳;张志俊;邓亦锋;蒋逸凡;张莉颖 | 申请（专利权）人： | 深圳技术大学 |
| 主分类号： | G01B11/24 | 分类号： | G01B11/24 |
| 代理公司： | 深圳尚业知识产权代理事务所(普通合伙) 44503 | 代理人： | 王利彬 |
| 地址： | 518000 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于同轴投影的光场相机三维测量装置及系统，该装置包括光源，用于发射平行光；投影件，沿第一光路设置于光源的后方，用于将平行光变为编码结构光；半透半反镜片，沿第一光路设置于投影件的后方并与投影件形成设定夹角，以用于反射或透射编码结构光；主透镜组，沿第一光路设置于半透半反镜片的后方，以用于沿第一光路透射编码结构光，以照射在待测量物体上，还用于沿第二光路透射编码结构光，以使编码结构光在第二光路上到达待测量物体的中继像位置；二次成像装置，沿第二光路设置于中继像位置的后方，并与待测量物体的中继像为物像关系，以用于对中继像进行二次成像。利用该光场相机三维测量装置能够提高远距离三维测量的精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 同轴 投影 相机 三维 测量 装置 系统 | ||
【主权项】：
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