[发明专利]一种光学特性建模方法和装置在审

专利信息
申请号: 202111425136.3 申请日: 2021-11-26
公开(公告)号: CN114065592A 公开(公告)日: 2022-02-18
发明(设计)人: 张晓雷;张厚道;施耀明 申请(专利权)人: 上海精测半导体技术有限公司
主分类号: G06F30/23 分类号: G06F30/23;G06F30/20;G06F17/16
代理公司: 上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286 代理人: 黄海霞
地址: 201700 上海市青浦区*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种光学特性建模方法和装置,该方法包括:将周期介质内的微结构在z方向上划分为N层薄片;针对同一层微结构的薄片,执行如下处理:获取所述薄片在周期空间xy平面上投影的各个封闭区域的几何信息;根据所述几何信息,对所述周期空间进行划分,得到x方向划分的目标积分子区间和y方向划分的目标积分子区间;计算周期介质的介电系数的傅里叶系数和周期介质的介电系数的托普利兹矩阵,以及进行严格耦合波分析,以实现周期介质的光学特性建模,该方法通过对积分区间的划分方法进行优化,从而高效地得到精确的周期介质的介电系数的傅里叶系数和介电系数的托普利兹矩阵。
搜索关键词: 一种 光学 特性 建模 方法 装置
【主权项】:
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