[发明专利]薄膜晶体管及其制作方法、阵列基板、显示面板和装置在审
| 申请号： | 202111429653.8 | 申请日： | 2021-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN114122148A | 公开（公告）日： | 2022-03-01 |
| 发明（设计）人： | 卢昱行;刘凤娟;童彬彬 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/786 | 分类号： | H01L29/786;H01L21/336;H01L27/12 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 王辉;阚梓瑄 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开一种薄膜晶体管及其制作方法、阵列基板、显示面板和装置，其中，薄膜晶体管包括：基板；第一有源层，位于基板的一侧，且具有第一中间区域和第一边缘部分，第一中间部分位于第一边缘部分之间；第二有源层，至少位于第一中间部分的表面；第一保护层，至少覆盖第一有源层的第一边缘部分；源漏极，位于第二有源层远离基板的一侧，并与第二有源层连接；栅极层，位于第二有源层远离基板的一侧，或者位于基板靠近第一有源层的表面；其中，第一有源层和第二有源层的材料不同。该薄膜晶体管可以在第一有源层和第二有源层选择任意刻蚀选择比的材料制作时，均能够具有较好的均一性，且不会出现驼峰现象，以使得该薄膜晶体管具有良好的稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜晶体管 及其 制作方法 阵列 显示 面板 装置 | ||
【主权项】：
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