[发明专利]可解释的分子生成模型在审
| 申请号： | 202111430254.3 | 申请日： | 2021-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN114627983A | 公开（公告）日： | 2022-06-14 |
| 发明（设计）人： | S.塔克达 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司 |
| 主分类号： | G16C20/70 | 分类号： | G16C20/70;G16C20/50;G06N3/08;G06N3/04 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 陈金林 |
| 地址： | 美国纽*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 可以提供一种用于训练具有可解释的隐空间的分子生成模型以标识来自从具有目标性质的输入分子生成的隐空间的生成的分子生成的子结构的方法。可以利用具有相关联的性质和已知子结构的分子结构的数据集来训练分子生成模型。该模型可以生成隐空间，在该隐空间中，子结构预测器模型可以被进一步训练以从具有目标性质和标识的子结构的输入分子预测具有目标性质的分子的子结构的数量。 | ||
| 搜索关键词： | 可解释 分子 生成 模型 | ||
【主权项】：
暂无信息
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