[发明专利]光致抗蚀剂底层组合物及图案化方法在审
| 申请号： | 202111453047.X | 申请日： | 2021-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN114647153A | 公开（公告）日： | 2022-06-21 |
| 发明（设计）人： | J·凯茨;M·芬奇;P·J·拉博姆;山田晋太郎;S·M·科莱 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/09 | 分类号： | G03F7/09;C08F212/14;C08F212/08;C08F220/20;C08F112/08 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋;乐洪咏 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种在衬底上形成图案的方法，该方法包括：在该衬底的表面上形成光致抗蚀剂底层，该光致抗蚀剂底层由包含具有小于110℃的玻璃化转变温度的聚合物和溶剂的组合物形成；对该光致抗蚀剂底层进行金属前体处理，其中该金属前体浸渗该光致抗蚀剂底层的自由体积；以及将金属前体处理的光致抗蚀剂底层暴露于氧化剂以提供金属化光致抗蚀剂底层。 | ||
| 搜索关键词： | 光致抗蚀剂 底层 组合 图案 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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