[发明专利]一种供墨系统底座、盖板和强化结构有效
| 申请号： | 202111461630.5 | 申请日： | 2021-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN114228339B | 公开（公告）日： | 2022-09-20 |
| 发明（设计）人： | 徐国林;李超 | 申请（专利权）人： | 镭德杰标识科技武汉有限公司 |
| 主分类号： | B41J2/01 | 分类号： | B41J2/01;B41J2/175 |
| 代理公司： | 武汉智权专利代理事务所(特殊普通合伙) 42225 | 代理人： | 李梦倩 |
| 地址： | 430000 湖北省武汉市东西湖区将军路街办事处金谭路以东、材保所*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本申请涉及一种供墨系统底座、盖板和强化结构，其第一主体的底座凹槽包括底座凹槽第一斜面、底座凹槽第一底面和底座凹槽第二斜面；第二主体的盖板凹槽包括盖板凹槽第一斜面、盖板凹槽第一顶面和盖板凹槽第二斜面；密封垫包括第一密封弧面、第二密封弧面、第三密封弧面、第四密封弧面、第五密封弧面和第六密封弧面。从而在连接时，底座凹槽第一斜面、底座凹槽第一底面和底座凹槽第二斜面；以及盖板凹槽第一斜面、盖板凹槽第一顶面和盖板凹槽第二斜面分别与对应的密封垫的六个密封弧面进行压紧接触，以增大密封面积，极大强化了密封效果，使其在同样密封效果下，减少螺丝的数量，构成的墨水通道也可以简便、可靠地构建。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 系统 底座 盖板 强化 结构 | ||
【主权项】：
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