[发明专利]石墨烯/等离子激元黑硅近红外探测器结构及其制备方法在审
申请号: | 202111471024.1 | 申请日: | 2021-12-03 |
公开(公告)号: | CN114300551A | 公开(公告)日: | 2022-04-08 |
发明(设计)人: | 宋轶佶;蓝镇立;何峰;丁玎;曾庆平 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 |
主分类号: | H01L31/0232 | 分类号: | H01L31/0232;H01L31/109;H01L31/18;G02B5/00 |
代理公司: | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人: | 廖元宝 |
地址: | 410111 湖南*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明公开了一种石墨烯/等离子激元黑硅近红外探测器结构及其制备方法,此结构包括n型硅片,所述硅片的正面中部设有等离子激元黑硅,所述硅片的正面周侧设置有二氧化硅层,所述二氧化硅层上设有正面电极,所述等离子激元黑硅上设有石墨烯层,所述石墨烯层的周侧延伸并与所述正面电极接触;所述硅片的背面有背电极。本发明能够显著改善光电性能,拓宽响应光谱范围,增强响应度。 | ||
搜索关键词: | 石墨 等离子 激元黑硅近 红外探测器 结构 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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