[发明专利]等离子处理设备在审
| 申请号： | 202111473502.2 | 申请日： | 2021-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN114203509A | 公开（公告）日： | 2022-03-18 |
| 发明（设计）人： | 曾辉 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L51/56 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 孟霞 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请实施例公开了一种等离子处理设备，在等离子体发生器的一外侧或周围设置负压装置，负压装置可以抽取将要逸散和超出等离子处理范围的等离子体，从而防止等离子体向待处理基板的待处理面的背面逸散，可以限定等离子处理的范围，从而提升显示面板的性能。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 处理 设备 | ||
【主权项】：
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