[发明专利]一种用于刻写大模场啁啾光纤光栅的切趾刻写系统在审
| 申请号： | 202111480248.9 | 申请日： | 2021-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN114325927A | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | 席晨斐;于雷;崔晓敏 | 申请（专利权）人： | 苏州英谷激光有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/02 | 分类号： | G02B6/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市中国(江苏)自由贸易试验区*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于刻写大模场啁啾光纤光栅的切趾刻写系统，包括：光学隔震台、244氩离子倍频紫外激光器、准直扩束镜、反射镜、转接板、X轴平移电动位移台、Y轴电动升降位移台、平凸球面透镜、待刻写载氢光纤、六维调整架、相位掩膜版、三轴可调的手动位移台、光纤夹具、Hi1060转大模场光纤的模场适配器、大模场光纤转Hi1060模场的适配器、三端口光纤环形器、宽带光源和光谱分析仪。本发明既可以满足大模场的高功率光纤光栅的刻写，又可以满足普通低功率的单模光纤光纤刻写；在电动位移台的配合下，达到良好的切趾效果，可实现近似于超高斯函数的切趾；由于其近似于超高斯切趾函数的切趾优势，也可以实现低反光纤光栅的反射谱平顶化的切趾效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 刻写 大模场 啁啾 光纤 光栅 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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