[发明专利]半导体装置在审
申请号: | 202111483604.2 | 申请日: | 2021-12-07 |
公开(公告)号: | CN114597211A | 公开(公告)日: | 2022-06-07 |
发明(设计)人: | 尹成美;金主烨;金旲炫;魏胄滢;任桐贤;郑天炯 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L27/108 | 分类号: | H01L27/108;H01L29/423 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 赵南;肖学蕊 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 一种半导体装置可包括:衬底,其包括凹部;栅极绝缘层,其在凹部的表面上;杂质屏障层,其在栅极绝缘层的表面上以覆盖栅极绝缘层的表面;第一栅极图案,其在杂质屏障层上以填充凹部的下部;第二栅极图案,其在凹部中的第一栅极图案上;封盖绝缘图案,其在第二栅极图案上以填充凹部;以及杂质区域,其在与凹部的上侧壁相邻的衬底处。杂质屏障层的氮的浓度可高于包括在栅极绝缘层中的氮的浓度。第二栅极图案可包括与第一栅极图案的材料不同的材料。杂质区域的下表面可高于第一栅极图案的上表面。因此,半导体装置可具有良好的特性。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
【主权项】:
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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