[发明专利]一种化学放大光刻胶及其制备与使用方法在审
| 申请号： | 202111486540.1 | 申请日： | 2021-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN114114834A | 公开（公告）日： | 2022-03-01 |
| 发明（设计）人： | 傅志伟;潘新刚;吴信;余文卿 | 申请（专利权）人： | 江苏汉拓光学材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/42 |
| 代理公司： | 上海智晟知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31313 | 代理人： | 张东梅 |
| 地址： | 221132 江苏省徐州市徐*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种化学放大光刻胶及其制备与使用方法，所述光刻胶包括如下质量百分比的各组分：聚合物树脂，光刻胶的5～10％；光酸，聚合物树脂的4～10％；猝灭剂，光酸的10～40％；UV吸收剂，聚合物树脂的0.5～5％；流平剂，光刻胶的0.1～0.5％；溶剂，补足百分百；所述聚合物树脂包括第一聚合物树脂和/或第二聚合物树脂；所述光酸选自离子型光酸或非离子型光酸中的至少一种。制备方法包括以下步骤：按化学放大光刻胶的各组分混合。使用方法包括以下步骤：将化学放大光刻胶涂布在硅片上，依次经过前烘、曝光、后烘和显影。本发明光刻胶能有效降低驻波效应，增加光刻胶图形侧壁的垂直性，提高光刻胶成像的分辨率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 放大 光刻 及其 制备 使用方法 | ||
【主权项】：
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