[发明专利]一种基于水蒸气处理二硫化钨表面P型掺杂的光电晶体管及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202111488447.4 申请日: 2021-12-07
公开(公告)号: CN114388653B 公开(公告)日: 2023-09-26
发明(设计)人: 张帅;高伟;霍能杰;李京波 申请(专利权)人: 华南师范大学
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/032;H01L31/112
代理公司: 广东广信君达律师事务所 44329 代理人: 彭玉婷
地址: 510630 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明属于半导体器件技术领域,公开了一种基于水蒸气处理二硫化钨表面P型掺杂的光电晶体管及其制备方法。该方法是将制得的PMMA/Au/WS2/SiO2/Si放入丙酮溶液浸泡去除PMMA薄膜,在Ar气体中150~300℃退火,在水蒸气环境中处理5~60min,得到Au/WS2/SiO2/Si,即为WS2表面P型掺杂的光电晶体管。本发明首次通过水蒸气处理实现了WS2表面P型掺杂,该方法掺杂方式简单,成本低廉,有利于商业化推广,使用WS2表面P型掺杂的光电晶体管。该光电晶体管具有快速光响应、高灵敏度以及高迁移率。为二维材料高性能光电器件供了可能的发展应用前景。
搜索关键词: 一种 基于 水蒸气 处理 硫化 表面 掺杂 光电晶体管 及其 制备 方法
【主权项】:
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