[发明专利]光敏树脂、光刻胶及其制备方法、应用在审

专利信息
申请号: 202111488648.4 申请日: 2021-12-07
公开(公告)号: CN114106326A 公开(公告)日: 2022-03-01
发明(设计)人: 黎迈俊;郑爽;潘锦铖;吴敏铭 申请(专利权)人: 广东粤港澳大湾区黄埔材料研究院
主分类号: C08G73/10 分类号: C08G73/10;G03F7/027;G03F7/038
代理公司: 华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 黎金娣
地址: 510700 广*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种光敏树脂,其化学结构式如下:其中,是含羟基的甲基丙烯酸酯类单体的酯化残基或含羟基的丙烯酸酯类单体的酯化残基,是芳香族四酸残基,是芳香族二胺单体残基,是封端基,m=0.1~1,n=10~100。光敏树脂的分子结构为刚性结构,且分子结构中同时含有羧基和三氟甲基,使树脂不仅能在有机溶剂中具有良好的溶解性能,还能实现在碱性水系溶液中显影,对环境较为友好,且树脂的热膨胀系数低、透明度高、光刻分辨率高。
搜索关键词: 光敏 树脂 光刻 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广东粤港澳大湾区黄埔材料研究院,未经广东粤港澳大湾区黄埔材料研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202111488648.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top