[发明专利]背光模组及背光模组的制备方法在审

专利信息
申请号: 202111509844.5 申请日: 2021-12-10
公开(公告)号: CN114203879A 公开(公告)日: 2022-03-18
发明(设计)人: 刘净 申请(专利权)人: TCL华星光电技术有限公司
主分类号: H01L33/46 分类号: H01L33/46;H01L33/62
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 汪阮磊
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请实施例公开了一种背光模组及背光模组的制备方法,包括第一反射层以及第二反射层,第二反射层上设有多个间隔设置的开口,且所述第二反射层在所述基板上的正投影与所述第一反射层在所述基板上的正投影部分重叠所述开口在所述基板上的正投影位于所述第一反射层在所述基板的正投影中,从而可以增加开口对应区域的反射率,减少开口对应的区域和第二反射层对应的区域的反射率的差异性,从而可以解决因第二反射孔开口而出现的光学品位问题,提高显示面板的显示效果。
搜索关键词: 背光 模组 制备 方法
【主权项】:
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