[发明专利]用于远距离大视场虹膜光学成像装置的照明光源辐射系统有效
申请号: | 202111533931.4 | 申请日: | 2020-04-18 |
公开(公告)号: | CN114500976B | 公开(公告)日: | 2023-08-08 |
发明(设计)人: | 倪蔚民 | 申请(专利权)人: | 苏州思源科安信息技术有限公司 |
主分类号: | H04N13/204 | 分类号: | H04N13/204;H04N13/296;H04N23/54;H04N23/55;H04N23/56;H04N23/67;H04N23/74;G06V40/16;G06V40/18;G06V40/19;G02B27/00 |
代理公司: | 北京恒律知识产权代理有限公司 11416 | 代理人: | 庞立岩 |
地址: | 215634 江苏省苏州市张*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明提供一种用于远距离大视场虹膜光学成像装置的LED照明光源辐射系统,其特征在于所述LED照明光源辐射系统包括辐射强度立体角和/或辐射强度方向角,响应于不同工作半径/距离对应的虹膜光学成像系统的视场角之间匹配关系和光学功率组合控制。本发明提供的一种远距离大视场虹膜光学成像的装置及方法,同时实现大范围时视场角和辐射照度恒定。 | ||
搜索关键词: | 用于 远距离 视场 虹膜 光学 成像 装置 照明 光源 辐射 系统 | ||
【主权项】:
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