[发明专利]扫描磁场导向沉积镀膜的磁过滤真空沉积镀膜设备及方法在审
| 申请号： | 202111537554.1 | 申请日： | 2021-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN114318246A | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | 郎文昌;刘俊红;徐峰;李多生;刘伟 | 申请（专利权）人： | 苏州艾钛科纳米科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32;C23C14/54 |
| 代理公司： | 温州名创知识产权代理有限公司 33258 | 代理人： | 朱海晓 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明属于真空镀膜设备技术领域，具体涉及一种扫描磁场导向沉积镀膜的磁过滤真空沉积镀膜设备及方法，包括真空弧磁过滤装置、弧源组件和真空镀膜腔室，真空弧磁过滤装置包括过滤管道，过滤管道上设有线圈模组，过滤管道接近出口端处设置有扫描磁场发生装置。扫描磁场发生装置在过滤管道接近出口端的内腔区域形成可调扫描磁场，离子束在可调扫描磁场在作用下发生上下偏转和/或左右偏转，使离子束在出口端以不同的偏转角度和旋转速度离开过滤管道进入真空镀膜腔室，因此，可大大增大一段时间内的沉积镀膜面积。通过对扫描磁场的调控，可以使一段时间内进入真空镀膜腔室的离子在较大的沉积表面上相对较为均匀的分布。 | ||
| 搜索关键词： | 扫描 磁场 导向 沉积 镀膜 过滤 真空 设备 方法 | ||
【主权项】：
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