[发明专利]一种磁场导向过滤的真空沉积镀膜设备及镀膜方法在审
| 申请号： | 202111537583.8 | 申请日： | 2021-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN114318247A | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | 郎文昌;刘俊红;徐峰;李多生;刘伟 | 申请（专利权）人： | 苏州艾钛科纳米科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32;C23C14/56 |
| 代理公司： | 温州名创知识产权代理有限公司 33258 | 代理人： | 朱海晓 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明属于真空镀膜设备技术领域，具体涉及一种磁场导向过滤的真空沉积镀膜设备及镀膜方法，包括一个或一个以上数目的磁场导向的真空弧磁过滤装置、弧源组件和真空镀膜腔室。本发明所使用的真空弧磁过滤装置采用直管状的过滤管道，其过滤的原理为采用挡板挡住大颗粒，而带电的离子则在第一线圈模组所形成的磁场作用下偏离过滤管道的中心线通过挡板与过滤管道内壁之间通道，其相比背景技术中所述的常规过滤装置所需的占用空间大大缩小，另外，在可调平行磁场或可调复合磁场或可调旋转磁场的作用下，可使离开过滤管道的离子束发生偏移，且偏移角度可调，因此，可大大增大一段时间内的沉积镀膜面积。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁场 导向 过滤 真空 沉积 镀膜 设备 方法 | ||
【主权项】：
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