[发明专利]一种光刻机系统及光刻方法在审
| 申请号： | 202111544292.1 | 申请日： | 2021-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN114114856A | 公开（公告）日： | 2022-03-01 |
| 发明（设计）人： | 侯国辉;侯国利;刘友兰;侯利艳 | 申请（专利权）人： | 深圳市笨辉光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳市新虹光知识产权代理事务所(普通合伙) 44499 | 代理人： | 刘莹莹 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝安区西乡街*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及光刻机技术领域，尤其涉及一种光刻机系统及光刻方法。该光刻机系统包括光源模块，光源模块能够发射至少两种能量光束；能量光束调节模块，用于调整能量光束的波长和能量；光学组件模块，光学组件模块用于对能量光束进行共线合轴和聚焦形成贝塞尔光束；四波混频光发射模块，用于提供四波混频蓝光，四波混频蓝光与贝塞尔光束进行共线合轴和聚焦能够形成短波能量光束；运动组件模块，包括样品台和智能机械手，样品台设置成能够进行位置移动状态，智能机械手用于调整样品台上的待刻样品位置，通过该系统能够实现光刻光束线宽的无限缩小，光束能够缩小到5nm、3nm及2nm甚至更低，在提高光刻精度的同时还降低了功耗。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 系统 方法 | ||
【主权项】：
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