[发明专利]等离子体激励的无附面隔层进气道系统及进气控制方法在审

专利信息
申请号: 202111544601.5 申请日: 2021-12-16
公开(公告)号: CN114194402A 公开(公告)日: 2022-03-18
发明(设计)人: 韩卓伟;居婷;朱炼;闫志伟;李宏宇;雷亮 申请(专利权)人: 重庆交通大学绿色航空技术研究院
主分类号: B64D33/02 分类号: B64D33/02
代理公司: 北京海虹嘉诚知识产权代理有限公司 11129 代理人: 胡博文
地址: 401120 重庆*** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 发明公开了一种等离子体激励的无附面隔层进气道系统及进气控制方法,包括等离子体激励器阵列、气压采集单元以及控制单元;所述等离子体激励器阵列包括R行且每行为S个等离子体激励器;所述等离子体激励器阵列沿着气流方向设置于进气道的前方,所述等离子体激励器阵列用于对进入进气道的气流进行整流;所述气压采集单元用于采集等离子体激励器阵列所在位置的气流压力;所述控制单元用于根据所述气流压力调整等离子体激励器阵列中每个等离子体激励器的放电频率与放电功率,使得对进气道气流的整流达到目标效果。本发明能够在更宽的速度范围内保持进气道的进气性能,实现对气流的主动控制。
搜索关键词: 等离子体 激励 无附面 隔层 进气道 系统 控制 方法
【主权项】:
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