[发明专利]一种光栅型高隔离度波分复用器生产工艺在审
申请号: | 202111546972.7 | 申请日: | 2021-12-16 |
公开(公告)号: | CN114200587A | 公开(公告)日: | 2022-03-18 |
发明(设计)人: | 孙雪萍;白世雄;袁春英;高小燕 | 申请(专利权)人: | 四川天邑康和通信股份有限公司 |
主分类号: | G02B6/255 | 分类号: | G02B6/255;G02B6/245 |
代理公司: | 成都金英专利代理事务所(普通合伙) 51218 | 代理人: | 郭肖凌 |
地址: | 610000 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种光栅型高隔离度波分复用器生产工艺,包括:将光纤A和光纤B一端分别剥取一定长度的裸光纤;将光纤光纤A和光纤B的裸光纤部分并列紧贴放置在中间保护管上,并通过磁体片将光纤A和光纤B分别在V型槽Ⅰ和V型槽Ⅱ上压好;光纤A另一端穿过精密连接器,收纳在光纤轴上并与监控光源相连接;再取辅光纤Ⅰ和辅光纤Ⅱ一端剥取一定长度的裸纤,将剥取后的裸线与光纤A、B的裸纤并列放置,并分别放置在光纤耦合器拉锥机的内槽和外槽;辅光纤Ⅰ和辅光纤Ⅱ另一端分别连接至平台监控通道Ⅰ和平台监控通道Ⅱ;光纤准备和放置完成后开始进行熔接,若器件参数指标符合规格则可直接封装。本发明相较于传统的波分复用器插损可以达到0.3dB。 | ||
搜索关键词: | 一种 光栅 隔离 度波分复用器 生产工艺 | ||
【主权项】:
暂无信息
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