[发明专利]一种基于消色差的多层框架结构的超表面隐身器在审

专利信息
申请号: 202111550465.0 申请日: 2021-12-17
公开(公告)号: CN114221134A 公开(公告)日: 2022-03-22
发明(设计)人: 石思琦;杨凯;孙硕;刘笑;井绪峰 申请(专利权)人: 中国计量大学
主分类号: H01Q15/00 分类号: H01Q15/00
代理公司: 杭州杭欣知识产权代理事务所(普通合伙) 33333 代理人: 尚竹亚
地址: 310018 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种基于消色差的多层框架结构的超表面隐身器,包括框架区和隐身区;框架区为菱形框架;隐身区的隐身层从下向上分别为第Ⅰ、第Ⅱ和第Ⅲ层超表面,隐身层与菱形框架的底面垂直,第Ⅰ层超表面切于框架的下棱;第Ⅲ层超表面切于框架的上棱;第Ⅱ层超表面位于棱形框架的两侧与菱形框架中间的棱相接;在框架区两侧的隐身层相位梯度相反;第I、Ⅲ层超表面的结构相同;晶格单元结构在每一层的隐身层上排列以使每一层的隐身层在垂直于入射波方向上的相位梯度dφ/dx满足线性色散dφ/dω满足本发明结构简单,体积微小,易于加工与集成;材料制作成本低廉,有利于广泛的应用;为实现消色差隐身开辟了新的道路。
搜索关键词: 一种 基于 色差 多层 框架结构 表面 隐身
【主权项】:
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