[发明专利]光测量装置、方法及光声膜厚测量系统在审
| 申请号： | 202111557186.7 | 申请日： | 2021-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN114279346A | 公开（公告）日： | 2022-04-05 |
| 发明（设计）人： | 唐岳;董诗浩;李仲禹 | 申请（专利权）人： | 上海精测半导体技术有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06;G01B17/02 |
| 代理公司： | 武汉东喻专利代理事务所(普通合伙) 42224 | 代理人： | 张英 |
| 地址： | 201702 上海市青浦区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提出了一种光测量装置、方法及光声膜厚测量装置，装置包括：至少一个泵浦激光源，以一定角度发射高斯光束；能量调节系统，调整高斯光束的光强并将高斯光束转换为线偏振的高斯光束；光束转化模块，将线偏振的高斯光束转化为环形光束；聚焦器件，将环形光束聚焦，以使待测对象的接收表面产生至少一形变区域；形变区域获得形变幅度增强。采用不同环形光束形状的泵浦激光可以在探测表面产生形变量增强的鼓包以提高探测灵敏度以及提高信噪比，并且环形光束在聚焦之后的聚焦效果更高，结合偏振状态生成环形光束的方法，使得表面形变量更大，探测光所携带的反射信息中关于角度和光程对应的时间信息都能够获得放大，从而提高探测灵敏度和信噪比。 | ||
| 搜索关键词： | 测量 装置 方法 光声膜厚 系统 | ||
【主权项】：
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