[发明专利]一种基于紫外光响应自组装系统的射流抛光装置和方法有效

专利信息
申请号: 202111560516.8 申请日: 2021-12-20
公开(公告)号: CN114393503B 公开(公告)日: 2023-05-02
发明(设计)人: 赵军;项永超;安德烈·胡多列伊 申请(专利权)人: 浙江工业大学
主分类号: B24B31/00 分类号: B24B31/00;B24B31/10;B24B31/12;B24B31/14;B24B41/06;B24B41/02;B24B49/00;B24B57/02;B24B1/00
代理公司: 杭州浙科专利事务所(普通合伙) 33213 代理人: 吴秉中
地址: 310000 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种基于紫外光响应自组装系统的射流抛光方法和装置,包括以下步骤:工件由机械臂驱动实现3自由度平动和绕Z轴转动;通过可调光控装置对抛光液进行两级黏度变换,从而可以对抛光液的初始粘度、紫外线自组装基团对抛光磨粒的把持力进行大范围调控,获得恰当大小射流粘度及较大的磨粒把持力。所述一种基于紫外光响应自组装系统的射流抛光装置包括电机控制柜、冷却装置、搅拌装置、电机、调节阀、单向阀、泵、流量计、第一压力传感器、抛光箱体、第二压力传感器,光源发出的不同波长的光改变抛光体的初始黏度。此方法可以有效提高工件抛光的材料去除率、提高表面质量、保证高质量面型精度、降低表面粗糙度,实现对于复杂曲面的确定性可控抛光。
搜索关键词: 一种 基于 紫外光 响应 组装 系统 射流 抛光 装置 方法
【主权项】:
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