[发明专利]一种光掩膜基板标记尺寸测试系统及方法在审
| 申请号： | 202111596532.2 | 申请日： | 2021-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN114252014A | 公开（公告）日： | 2022-03-29 |
| 发明（设计）人： | 欧阳琛;朱继红;张欣;刘经纬 | 申请（专利权）人： | 长飞光纤光缆股份有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/00 | 分类号： | G01B11/00;G03F1/68;G03F1/84 |
| 代理公司： | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人： | 胡建平;周舒蒙 |
| 地址： | 430073 湖北省*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光掩膜基板标记尺寸测试系统，包括三维移动平台、光源、聚焦透镜、相机、计算机和控制器；所述三维移动平台的中部设有透明且透光的固定板；待测试的光掩膜基板安装在固定板上；所述光源位于固定板的下方，所述聚焦透镜位于光掩膜基板的上方；所述相机镜头正对聚焦透镜；所述相机、控制器分别与计算机相连，控制器与三维移动平台相连，控制三维移动平台的运动。本发明还提供了一种光掩膜基板标记尺寸测试方法。本发明的有益效果为：本发明基于机器视觉法，寻找标记角的特定区域成像清晰时的位置，通过位置的差异比较得到标记角的尺寸，在测量过程中不接触光掩膜基板质量区，避免了划痕的产生，且测量成本低。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光掩膜基板 标记 尺寸 测试 系统 方法 | ||
【主权项】：
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