[发明专利]同时实现低温与高温等离子体刻蚀工艺的电极及调控方法在审

专利信息
申请号: 202111598611.7 申请日: 2021-12-24
公开(公告)号: CN116344301A 公开(公告)日: 2023-06-27
发明(设计)人: 李娜;韩大健;王海东;郭颂;刘海洋;张怀东;胡冬冬;许开东 申请(专利权)人: 江苏鲁汶仪器有限公司
主分类号: H01J37/04 分类号: H01J37/04;H01J37/32;H01L21/67
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 彭英
地址: 221300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明属于等离子刻蚀技术领域,具体涉及一种同时实现低温与高温等离子体刻蚀工艺的电极及调控方法,所述电极包括电极本体,电极本体包括从上到下依次设置的加热台、导热板和水冷板,水冷板的上表面,在中部位置处设置有导热板嵌槽,导热板嵌槽的槽底与加热台的下表面之间,存在间隙h;导热板嵌装在导热板嵌槽中,且导热板的厚度为h1,h1h;加热台的外侧区域与水冷板的外侧区域之间通过法兰配合连接的方式连接成一体。所述调控方法包括高温和低温两种工况下的调控;所述电极用于承载晶圆,同时结合所述调控方法为晶圆提供刻蚀工艺所需合适的温度。
搜索关键词: 同时 实现 低温 高温 等离子体 刻蚀 工艺 电极 调控 方法
【主权项】:
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