[发明专利]一种高精度同步扫描光学系统装调精度评估方法有效

专利信息
申请号: 202111598695.4 申请日: 2021-12-24
公开(公告)号: CN114383817B 公开(公告)日: 2023-07-14
发明(设计)人: 吴云;华宝成;尹芳;贺盈波;祝浩;朱飞虎;郑岩;苏畅;郭绍刚;王立;何英姿 申请(专利权)人: 北京控制工程研究所
主分类号: G01M11/02 分类号: G01M11/02;G02B26/10
代理公司: 中国航天科技专利中心 11009 代理人: 任林冲
地址: 100080 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种高精度同步扫描光学系统装调精度评估方法,属于光学系统高精度装调领域。通过同步扫描镜的旋转,使得激光光源投射在屏上不同的位置,记录扫描镜处于不同角度位置时的探测器上像点的像面坐标;同时根据小孔成像原理将物方光点投影至探测器,得到像方光点的横向坐标,再通过直线拟合,得到直线斜率,进而可得到该斜率的反正切角度,该角度即为反映同步扫描光学系统装调状态的量。本发明有效解决了同步扫描光学系统装调状态评估步骤复杂、效率低下的问题,具有操作简单、易于实施的特点。
搜索关键词: 一种 高精度 同步 扫描 光学系统 精度 评估 方法
【主权项】:
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