[发明专利]一种光学表面抛光状态评判方法在审
| 申请号： | 202111609956.8 | 申请日： | 2021-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN114280334A | 公开（公告）日： | 2022-04-05 |
| 发明（设计）人： | 谭中奇 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军国防科技大学 |
| 主分类号： | G01Q60/24 | 分类号： | G01Q60/24;G01B21/30 |
| 代理公司： | 长沙正务联合知识产权代理事务所(普通合伙) 43252 | 代理人： | 吴婷 |
| 地址： | 410073 湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： |
本发明提供了一种光学表面抛光状态评判方法，它属于光学技术领域。本发明通过测量待测光学表面的微观形貌数据以及原位硬度/模量数据，并对两组数据进行相关运算，得到两者的相关系数γ，最后根据实际情况设定判定阈值γ |
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| 搜索关键词： | 一种 光学 表面 抛光 状态 评判 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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