[发明专利]一种高纯水溶性硅片清洗剂及其制备方法在审
| 申请号： | 202111620195.6 | 申请日： | 2021-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN114317128A | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | 张传好;周励;纪招君 | 申请（专利权）人： | 上海化学试剂研究所有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/29 | 分类号： | C11D1/29;C11D1/72;C11D3/60;C11D3/37;C11D3/22;C11D3/20 |
| 代理公司： | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人： | 蒋亮珠 |
| 地址： | 200333 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种高纯水溶性硅片清洗剂及其制备方法，包括以下重量百分比的组分：表面活性剂5～10％、聚合物助洗剂5～15％、助溶剂1～5％、增强剂25～40％和高纯水35～50％。与现有技术相比，本发明底漆VOC含量低，且漆膜干性快，韧性好，早期耐水性能佳，防腐性能优异，另外，本发明清洗剂主要用于抛光后硅片清洗及擦片工序，主要祛除硅片在加工过程中表面沾染的润滑剂、灰尘及其它污物。是一种无毒、无害、安全、无污染的清洗剂。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高纯 水溶性 硅片 洗剂 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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