[发明专利]蒸镀装置、蒸镀装置中的基板弯曲调节方法在审
| 申请号： | 202111640505.0 | 申请日： | 2021-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN114351106A | 公开（公告）日： | 2022-04-15 |
| 发明（设计）人： | 陈建超;李朝晖 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50;C23C14/54;C23C14/24 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 杨艇要 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本申请实施例公开了一种蒸镀装置、蒸镀装置中的基板弯曲调节方法，蒸镀装置包括设置于容纳腔内的：磁板；弯曲测试部设置于夹持件的下方，弯曲测试部包括设置于一基板夹持件下方的光发射器，以及设置于另一基板夹持件下方的光接收器，光发射器和光接收器相对设置。通过设置弯曲测试部测试基板的弯曲和下垂是否超出预设弯曲值，当基板的弯曲和下垂超出预设弯曲值时，调整磁力参数，减小设置光罩后对基板的刮伤、划伤，从而可以改善和避免光罩刮伤、划伤基板上的膜层结构。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 中的 弯曲 调节 方法 | ||
【主权项】：
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