[发明专利]一种真空目标靶溅射沉积监测系统和方法有效
| 申请号： | 202111647028.0 | 申请日： | 2021-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN114293167B | 公开（公告）日： | 2022-10-11 |
| 发明（设计）人： | 何梓豪;谢侃;梁福文;田丰;苗龙 | 申请（专利权）人： | 北京理工大学 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54;C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京盛询知识产权代理有限公司 11901 | 代理人： | 李艳芬 |
| 地址： | 100081 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开一种真空目标靶溅射沉积监测系统和方法，该系统包括真空腔室，所述真空腔室的底部固定连接有目标靶承载装置，其中，在所述目标靶承载装置上放置目标靶材，所述目标靶承载装置上方设置有旋转称量装置，所述旋转称量装置用于获得在所述真空腔室的任意位置所述目标靶材的沉积质量，所述真空腔室的侧壁上设置有离子发生装置，所述离子发生装置用于电离惰性气体产生离子束，所述离子束用于轰击所述目标靶材。本发明实现溅射目标靶材料的溅射产额的快速、准确、经济测量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空 目标 溅射 沉积 监测 系统 方法 | ||
【主权项】：
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